光催化除臭設(shè)備的清洗維護(hù)

 

現(xiàn)在很多產(chǎn)生廢氣的廠房都裝設(shè)光催化除臭設(shè)備，雖然利用紫外光處理臭氣的方法出現(xiàn)的時(shí)間不長，但是由于處理效率高和處理臭氣***等***點(diǎn)被廣泛應(yīng)用，但是這么***的方法也有缺點(diǎn)，那就是需要定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行清洗以及維護(hù)，下面我們來看一下。

光催化除臭設(shè)備的清洗周期一般都為3個(gè)月左右，清洗的周期越短，那么臭氣處理的效率就會(huì)越高，如果長時(shí)間不清理，還會(huì)有很多的安全隱患。清洗的洗滌劑就是普通的熱水和燒堿就可以完成，水溫控制在50°為***，因?yàn)檫@個(gè)水溫?zé)龎A的處理能力是合適水溫，把要清洗的設(shè)備放在洗滌槽中清洗就可以了。

清洗的主要流程就是切斷電源，把檢修門打開，拿出需要清洗的設(shè)備在燒堿水中浸泡半個(gè)小時(shí)之后，再用清水沖洗干凈，用自然的方法干燥，確保設(shè)備干燥了就可以放回光催化除臭設(shè)備里了，這就完成了一次簡單的清洗工作，當(dāng)光催化除臭設(shè)備安裝的時(shí)候廠家都會(huì)為企業(yè)的做清洗以及維護(hù)培訓(xùn)，因?yàn)榍逑吹倪^程不難，所以一般的人都可以操作，這也是光催化臭氣處理設(shè)備得到廣泛應(yīng)用的因素之一。

在清洗的過程中應(yīng)該嚴(yán)格按照流程去執(zhí)行，如果發(fā)生清洗流程錯(cuò)誤，那么很可能會(huì)造成機(jī)器的損傷，嚴(yán)重的機(jī)器就會(huì)報(bào)廢。