低溫等離子除臭設(shè)備的凈化原理

 

 

除臭設(shè)備的計凈化原理一：

 

除臭設(shè)備用***制的高能高臭氧UV紫外線光束照耀惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氧化結(jié)組成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。

 

除臭設(shè)備的凈化原理二： 使用高能高臭氧UV紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，從而發(fā)生臭氧。

 

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除作用。

 

除臭設(shè)備的凈化原理三： 惡臭氣體使用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分化氧化反響，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再經(jīng)過排風管道排出室外。

 

除臭設(shè)備的凈化原理四： 使用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，損壞細菌的核酸（DNA），再經(jīng)過臭氧進行氧化反響，完全到達脫臭及殺滅細菌的意圖。