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低溫等離子除臭設(shè)備的工作原理及工藝分析

未知, 2019-01-14 21:30, 次瀏覽

低溫等離子除臭設(shè)備的工作原理及工藝分析
 
 
低溫等離子除臭設(shè)備***別高能高紫外線光束暴露在太陽(yáng)的紫外線惡臭,開裂有氣味的氣體如氨、三甲胺、硫化氫,硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯,硫化H2S,揮發(fā)性有機(jī)化合物,分子鏈結(jié)構(gòu)的苯、甲苯、二甲苯、有機(jī)或無機(jī)聚合物有氣味的化合物分子鏈,高能光束照射在太陽(yáng)紫外線下,分解為低分子化合物,如CO2、H2O等。
低溫等離子除臭設(shè)備利用高能、高臭氧的紫外紫外線光束分解空氣中的氧分子,產(chǎn)生游離氧,即活性氧,由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡,需要與氧分子結(jié)合。
UV+O2 O-+O *(活性氧種類)

除臭設(shè)備
有惡臭的氣體輸入后的凈化設(shè)備排氣設(shè)備,凈化設(shè)備使用高能束UV紫外線和臭氧進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)有惡臭的氣體,所以有惡臭的氣體物質(zhì)降解成低分子化合物,水和二氧化碳,然后通過排氣管的戶外解除。
低溫等離子除臭設(shè)備利用高能紫外光束,裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),完全達(dá)到除臭殺菌的目的。